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    集成注入逻辑较金属氧化物半导体优越

    • 摘要: 集成注入逻辑电路自三年前发表以来(1972年发表),已开始离开实验阶段,逐步变成产品市售。这种电路采用双极大规模集成技术,其性能比互补金属氧化物半导体电路优越。本文以实例加以介绍,最后将它与晶体管晶体管逻辑电路进行比较。

       

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