摘要: 高溫扩散炉程序控制装置是应我国大规模集成电路工业发展的急需,针对我国半导体工业的实际情况研制而成的。它的主要特点是:(一)全部采用国产元件,造价低,稳定可靠,可以与各种新旧扩散炉配套使用;(二)技术参数调节范围大,功能齐全,应用广泛,可以满足大规模集成电路以及其它各种半导体器件生产的需要,(三)显示明确,使用维护方便,不需要特殊机器环境,不需要专门培训操作人员。