摘要: 集成注入逻辑易于实现多用途,在目前采用的所有各种双极型LSI工艺中,可能是最大的突破,与TTL、ECL、C³L、抡电流逻辑、T³L（有一个额外的缓冲级）、EFL、三次扩散或电流型逻辑不同,I²L兼备两个很有希望的特点:它制造很简单,如果设计者知道要做什么,就可能很快。因此当它在1972年第一次出现时就引起了半导体工业界最有创造性的研究人员的注意。即使如此,I²L电路进入生产的速度还是惊人的,在国际固态电路会议上发表不到两年,一个完整的4位I²L微处理机就上市了,自此以后制造工艺的改进(最小的电路几何尺寸和