摘要: 为了实现高记录密度的磁盘,研究了采用溅射法制成的氧化物薄膜和镀有氧化铝膜的Al 合金板的新式氧化物磁盘介质。（1）氧化物磁性薄膜的制作方法分以下两步。首先在强氧化气氛中,通过反应溅射形成α-Fe₂O₃;然后继续在氢气中进行还原生成Fe₃O₄。（2）采用了与涂布型磁盘板相同的Al 合金基板,由于表面镀有较硬的氧化铝膜,所以与以前基板相比,提高了表面精度及耐磁头磨损性。（3）由于同时添加Al 和Co,提高了磁特性,而且记录密度达到了800位/毫米。（4）今后的研究课题不仅只限于电磁转换特性,而且还要对漏码、耐磁头磨损性等方面进行研究,同时考虑到生产率的问题还要进一步提高磁性膜的生成速度。